Preparacion de peliculas delgadas de SIO2 con altas tasas de deposito, mediante la tecnica de deposito de vapores quimicos asistido por un plasma remoto inductivo
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Tesis de licenciatura |
| Published: |
MX
1999
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000279049 http://132.248.9.195/pd1999/279049/Index.html |