Estudio de la fotoluminiscencia del silicio poroso bajo tratamientos en PECVD con NH3
Autor principal: | Pinzón Ramírez, Pedro Humberto |
---|---|
Otras Contribuciones: | Dutt, Ateet (Asesor) |
Formato: | Tesis de licenciatura |
Lenguaje: | Español |
Publicado: |
2018
|
Materias: | |
Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000783026 http://132.248.9.195/ptd2018/noviembre/0783026/Index.html |
Ejemplares similares
-
Estudio de la fotoluminiscencia del silicio poroso con diferentes tratamientos de plasma por PECVD
por: Pérez Peña, Miguel Ángel
Publicado: (2017) -
Influencia de la razón R[SIH2CL2/NH3] en la intensidad y posición de los picos de fotoluminiscencia de películas de nitruro de silicio ricas en silicio obtenidas por PECVD
por: Santiago Cruz, Félix
Publicado: (2008) -
Análisis del efecto del cloro sobre el crecimiento de nanoestructuras de silicio por PECVD a partir de SiH2Cl2 y NH3
por: Salazar Hernández, Jenifer
Publicado: (2016) -
Influencia de la potencia de RF y la presión en la intensidad y posición de los picos de fotoluminiscencia de películas de nitruro de silicio ricas en silicio obtenidas por PECVD
por: Gómez González, Luis Andrés
Publicado: (2011) -
Preparacion de peliculas de nitruro de silicio por PECVD y su caracterizacion electrica
por: Espinosa Mendoza, Martin
Publicado: (1990)