Estudio y crecimiento de la interface Si/SiO2 mediante oxidación térmica como propuesta de fabricación en un dispositivo pseudo-MOSFET
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Tesis de licenciatura |
| Published: |
MX
2020
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000802935 http://132.248.9.195/ptd2020/agosto/0802935/Index.html |