Grabado acido del esmalte aplicado a la resina fotopolimerizable
| Autores principales: | , |
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| Otras Contribuciones: | |
| Formato: | Tesis de licenciatura |
| Publicado: |
México
1989
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000094331 https://tesiunamdocumentos.dgb.unam.mx/pmig2018/0094331/Index.html |