Galicia Gallegos, M. A., Hernandez Oyarzabal, G., & Martinez y Saenz, R. F. (1989). Grabado acido del esmalte aplicado a la resina fotopolimerizable.
Cita Chicago Style (17a ed.)Galicia Gallegos, Ma. Araceli, Guillermina Hernandez Oyarzabal, y Raul F. Martinez y Saenz. Grabado Acido Del Esmalte Aplicado a La Resina Fotopolimerizable. 1989.
Cita MLA (8a ed.)Galicia Gallegos, Ma. Araceli, et al. Grabado Acido Del Esmalte Aplicado a La Resina Fotopolimerizable. 1989.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.