Grabado acido del esmalte aplicado a la resina fotopolimerizable

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Galicia Gallegos, Ma. Araceli, Hernandez Oyarzabal, Guillermina
Otras Contribuciones: Martinez y Saenz, Raul F. (Asesor)
Formato: Tesis de licenciatura
Publicado: MX 1989
Materias:
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000094331
http://132.248.9.195/pmig2018/0094331/Index.html
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