Grabado acido del esmalte aplicado a la resina fotopolimerizable

Grabado acido del esmalte aplicado a la resina fotopolimerizable

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Galicia Gallegos, Ma. Araceli, Hernandez Oyarzabal, Guillermina
Otras Contribuciones:	Martinez y Saenz, Raul F. (Asesor)
Formato:	Tesis de licenciatura
Lenguaje:	Español
Publicado:	1989
Materias:	Ciencias Biológicas, Químicas y de la Salud
Acceso en línea:	https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000094331 http://132.248.9.195/pmig2018/0094331/Index.html

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