Alonso Huitrón, J. C., & Falcony Guajardo, C. (1991). Dióxido de silicio depositado por plasma a partir de una nueva mezcla de gases.
Cita Chicago Style (17a ed.)Alonso Huitrón, Juan Carlos, y Ciro Falcony Guajardo. Dióxido De Silicio Depositado Por Plasma a Partir De Una Nueva Mezcla De Gases. 1991.
Cita MLA (8a ed.)Alonso Huitrón, Juan Carlos, y Ciro Falcony Guajardo. Dióxido De Silicio Depositado Por Plasma a Partir De Una Nueva Mezcla De Gases. 1991.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.