Dióxido de silicio depositado por plasma a partir de una nueva mezcla de gases

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Alonso Huitrón, Juan Carlos
Otras Contribuciones: Falcony Guajardo, Ciro (Asesor)
Formato: Tesis de doctorado
Lenguaje:Español
Publicado: 1991
Materias:
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000147830
http://132.248.9.195/ppt1997/0147830/Index.html

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