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Fotoestabilidad de coumarina 540 en geles de Si02 expuestos a un laser de Art

Fotoestabilidad de coumarina 540 en geles de Si02 expuestos a un laser de Art

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Palomares Hernandez, Laura Olivia
Otras Contribuciones: García Macedo, Jorge Alfonso (Asesor)
Formato: Tesis de licenciatura
Publicado: MX 1998
Materias:
Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000267304
http://132.248.9.195/pdbis/267304/Index.html
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https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000267304
http://132.248.9.195/pdbis/267304/Index.html

Ejemplares similares

  • Fotodestruccion de coumarina 440 en geles de SiO2 expuestos a un laser entonable de nitrogeno
    por: Torres Olguin, Ulises Roberto
    Publicado: (1998)
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    por: López Franco, Carlos Fernando
    Publicado: (1980)
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    por: Ortiz-Soto, Karla Arlen
    Publicado: (2012)
  • Fotoconductividad en geles de SiO2:Rh6G
    por: Franco Perez, Alfredo
    Publicado: (2001)
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    por: Perez Pacheco, Angélica
    Publicado: (2003)

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