Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica
| Autor principal: | |
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| Otras Contribuciones: | |
| Formato: | Tesis de maestría |
| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
2001
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000296748 http://132.248.9.195/pd2001/296748/Index.html |