Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Pichardo Pedrero, Ernesto
Otras Contribuciones: Alonso Huitrón, Juan Carlos (Asesor)
Formato: Tesis de maestría
Publicado: MX 2001
Materias:
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000296748
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