Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica

Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica

Detalles Bibliográficos
Autor principal:	Pichardo Pedrero, Ernesto
Otras Contribuciones:	Alonso Huitrón, Juan Carlos (Asesor)
Formato:	Tesis de maestría
Publicado:	MX 2001
Materias:	Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías Ciencias Biológicas, Químicas y de la Salud
Acceso en línea:	https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000296748 http://132.248.9.195/pd2001/296748/Index.html

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