Santiago Cruz, F., & Santana Rodríguez, G. (2008). Influencia de la razón R[SIH2CL2/NH3] en la intensidad y posición de los picos de fotoluminiscencia de películas de nitruro de silicio ricas en silicio obtenidas por PECVD. MX.
Cita Chicago Style (17a ed.)Santiago Cruz, Félix, y Guillermo Santana Rodríguez. Influencia De La Razón R[SIH2CL2/NH3] En La Intensidad Y Posición De Los Picos De Fotoluminiscencia De Películas De Nitruro De Silicio Ricas En Silicio Obtenidas Por PECVD. MX, 2008.
Cita MLA (8a ed.)Santiago Cruz, Félix, y Guillermo Santana Rodríguez. Influencia De La Razón R[SIH2CL2/NH3] En La Intensidad Y Posición De Los Picos De Fotoluminiscencia De Películas De Nitruro De Silicio Ricas En Silicio Obtenidas Por PECVD. MX, 2008.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.