Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma

Detalles Bibliográficos
Autor principal:	Núñez Acosta, Elisa
Otras Contribuciones:	Ortega Bernal, María del Pilar Constanza (Asesor)
Formato:	Tesis de licenciatura
Lenguaje:	Español
Publicado:	2008
Materias:	Ciencias Biológicas, Químicas y de la Salud Vapores
Acceso en línea:	https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000636952 http://132.248.9.195/ptd2008/noviembre/0636952/Index.html

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