Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Núñez Acosta, Elisa
Otras Contribuciones: Ortega Bernal, María del Pilar Constanza (Asesor)
Formato: Tesis de licenciatura
Lenguaje:Español
Publicado: 2008
Materias:
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000636952
http://132.248.9.195/ptd2008/noviembre/0636952/Index.html
_version_ 1777516517970149376
author Núñez Acosta, Elisa
author2 Ortega Bernal, María del Pilar Constanza
author2_role Asesor
author_facet Ortega Bernal, María del Pilar Constanza
Núñez Acosta, Elisa
author_sort Núñez Acosta, Elisa
collection DSpace
dc:degree.department Facultad de Química
dc:degree.department_facet Facultad de Química
dc:degree.grantor Universidad Nacional Autónoma de México
dc:degree.level Licenciatura
dc:degree.name Licenciatura en Química
dc:degree.name_facet Licenciatura en Química
dc:rights http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
Acceso en línea sin restricciones
format Tesis de licenciatura
id 20.500.14330-TES01000636952
institution Universidad Nacional Autónoma de México
language Español
publishDate 2008
record_format dspace
spelling 20.500.14330-TES010006369522021-12-15T23:56:04Z Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma Núñez Acosta, Elisa Ortega Bernal, María del Pilar Constanza Ciencias Biológicas, Químicas y de la Salud Vapores 2008 Tesis de licenciatura publishedVersion https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000636952 http://132.248.9.195/ptd2008/noviembre/0636952/Index.html 001-00523-N2-2008 spa http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 Acceso en línea sin restricciones MX https://tesiunam.dgb.unam.mx/F?func=direct&current_base=TES01&doc_number=000636952 Licenciatura en Química Universidad Nacional Autónoma de México Facultad de Química Licenciatura
spellingShingle Ciencias Biológicas, Químicas y de la Salud
Vapores
Núñez Acosta, Elisa
Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma
title Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma
title_full Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma
title_fullStr Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma
title_full_unstemmed Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma
title_short Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma
title_sort modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de snx sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma
topic Ciencias Biológicas, Químicas y de la Salud
Vapores
url https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000636952
http://132.248.9.195/ptd2008/noviembre/0636952/Index.html
work_keys_str_mv AT nunezacostaelisa modelajedealgunasreaccionesquimicasqueocurreneneldepositodepeliculasdelgadasdesnxsyutilizandoelmetododedepositoquimicodevaporesasistidoporplasma