Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma
| Main Author: | |
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| Format: | Tesis de licenciatura |
| Published: |
MX
2008
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000636952 http://132.248.9.195/ptd2008/noviembre/0636952/Index.html |