Modelaje de algunas reacciones químicas que ocurren en el depósito de películas delgadas de Snx Sy utilizando el método de depósito químico de vapores asistido por plasma
| Autor principal: | |
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| Formato: | Tesis de licenciatura |
| Publicado: |
México
2008
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| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000636952 https://tesiunamdocumentos.dgb.unam.mx/ptd2008/noviembre/0636952/Index.html |