Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas
| Autor principal: | |
|---|---|
| Otras Contribuciones: | |
| Formato: | Tesis de licenciatura |
| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
2013
|
| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000692323 http://132.248.9.195/ptd2013/abril/0692323/Index.html |