Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas
| Autor principal: | |
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| Otras Contribuciones: | |
| Formato: | Tesis de licenciatura |
| Publicado: |
MX
2013
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000692323 http://132.248.9.195/ptd2013/abril/0692323/Index.html |
| _version_ | 1832755895869636609 |
|---|---|
| author | Toscano Coahuila, Cristina |
| author2 | Ruvalcaba Morales, Raúl |
| author2_role | Asesor |
| author_facet | Ruvalcaba Morales, Raúl Toscano Coahuila, Cristina |
| author_sort | Toscano Coahuila, Cristina |
| collection | DSpace |
| degree_department | Facultad de Ingeniería |
| degree_department_facet | Facultad de Ingeniería |
| degree_grantor | Universidad Nacional Autónoma de México |
| degree_level | Licenciatura |
| degree_name | Licenciatura en Ingeniería Eléctrica Electrónica |
| degree_name_facet | Licenciatura en Ingeniería Eléctrica Electrónica |
| format | Tesis de licenciatura |
| id | 20.500.14330-TES01000692323 |
| institution | Universidad Nacional Autónoma de México |
| publishDate | 2013 |
| publisher | MX |
| record_format | dspace |
| rights | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 Acceso en línea sin restricciones |
| spelling | 20.500.14330-TES010006923232024-06-17T22:01:52Z Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas Toscano Coahuila, Cristina Ruvalcaba Morales, Raúl Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías 2013 Tesis de licenciatura https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000692323 http://132.248.9.195/ptd2013/abril/0692323/Index.html http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 Acceso en línea sin restricciones MX https://tesiunam.dgb.unam.mx/F?current_base=TES01&func=direct&doc_number=000692323 Licenciatura en Ingeniería Eléctrica Electrónica Universidad Nacional Autónoma de México Facultad de Ingeniería Licenciatura |
| spellingShingle | Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías Toscano Coahuila, Cristina Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas |
| title | Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas |
| title_full | Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas |
| title_fullStr | Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas |
| title_full_unstemmed | Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas |
| title_short | Sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas |
| title_sort | sistema de posicionamiento de placas fotosensitivas aplicado al proceso de revelado y ataque para el desarrollo de mascarillas |
| topic | Ciencias Físico - Matemáticas y de las Ingenierías |
| url | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000692323 http://132.248.9.195/ptd2013/abril/0692323/Index.html |
| work_keys_str_mv | AT toscanocoahuilacristina sistemadeposicionamientodeplacasfotosensitivasaplicadoalprocesodereveladoyataqueparaeldesarrollodemascarillas |