Estudio de la influencia de CH4 y H2 en la estructura y fotoluminiscencia de películas delgadas de carburo de silicio depositadas mediante la técnica de vapores químicos asistida por plasma remoto
| Autor principal: | |
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| Otras Contribuciones: | |
| Formato: | Tesis de maestría |
| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
2020
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000802484 http://132.248.9.195/ptd2020/agosto/0802484/Index.html |