Preparacion de peliculas delgadas de SIO2 con altas tasas de deposito, mediante la tecnica de deposito de vapores quimicos asistido por un plasma remoto inductivo
| Autor principal: | |
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| Otras Contribuciones: | |
| Formato: | Tesis de licenciatura |
| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
1999
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.14330/TES01000279049 http://132.248.9.195/pd1999/279049/Index.html |